Rafeindageislalíþíógrafía á Tæknisetri

Undanfarna daga hefur Tæknisetur, í samstarfi við Háskóla Íslands og Raith, unnið að uppsetningu á Raith rafeindageislaritunarbúnaði (e-beam lithography) á JEOL rafeindasmásjána okkar.
Rafeindageislaritun er notuð til að skrifa afar smátt mynstur, nokkra tugi nanómetra að þykkt, með rafeindageisla. Hana má nota til að smíða nanóbúnað, skynjara og rafskaut, auk ljóseindafræðilegra strúktúra. Þetta býður upp á hraða frumgerðasmíði fyrir rannsóknir og iðnað, þar sem engin ljósgríma er nauðsynleg við framleiðsluna